中科院研发成功2nm光刻机（中科院技术全球首创）

2018年末，一场火灾引起的蝴蝶效应改写了历史。 那是烧毁荷兰ASML光刻机公司工厂的一场火灾，在大火中，有一台光刻机是我国斥资8.2亿购买的。 因为火灾，光刻机不知何时才能到我国的手里。 随后而来的是，光刻机没有交货，但是荷兰出口的EUV光刻机到中国的许可证却已经到期了，光刻机的交付只能一延再延。 别看只是简单一台光刻机，没有了这台光刻机，整个中国的7纳米半导体研发过程都会受到极大的影响。 可是，中华民族从来都具备不惧困难的特点，更不会让半导体芯片的发展止步于此！

而就在全世界都在攻克7纳米芯片的进一步研发时，一直没有拿到光刻机的中国，却做出了石破天惊的一举，那就是中国科学院成功攻克了2纳米级芯片的关键技术！也就是垂直纳米环栅晶体管，这也将是我国2纳米级半导体的研发基础。 要知道，长久以来，我国的芯片生产一直都依赖着EUV光刻机，对于研发EUV光刻机而言，中国实在是还有很长一段路要走，因为目前中国拥有的光刻机精度仅达到45纳米，对于达到全球独一份的荷兰独家制造工艺水平，中国制造还是任重而道远。 这也就表示，虽然中国高精度芯片的研发位居全世界前列，但在光刻机的制造技术和需求上仍然是亟需解决的一个大问题。

而根据中芯国际的最新财报显示，国内的第一条14纳米芯片生产线已经落户上海正式投入使用中，更重要的是，这一条生产线在实现量产提升的同时，还导入了能耗下降20%，性能升高10%的12纳米级芯片。 但不容我们忽视的一点是，这一创举的出现还是得益于荷兰ASML公司一直正常的向我国正常供应7纳米以上的光刻机。

其实，在之前美国恶意打压华为的事件中，我们就体会到芯片对于一个国家的重要性。 当年因为日本半导体行业高度发达，美国就对当时的日本半导体翘楚东芝公司进行了不择手段的打压，最终日本没能挡住，半个世纪以来都没喘过气来，至今仍在芯片制造技术上高度依赖美国。 而中国，决不能步日本的后尘，所以在芯片制造上中国一直保持高度的科研投入，并给予大量的政策支持。

此次中科院对于2纳米芯片的研制成功破冰，无疑是对国民们一次巨大的鼓舞，我们深切希望，国家半导体芯片的未来一片光明！

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